Métrologie des Surfaces

AltiSurf© 530

Performance et grand volume

Développé pour les applications dans le domaine des semi-conducteurs, l’Altisurf 530 est spécialement conçu pour le contrôle des wafers de 12 pouces, grâce à sa fonction d’auto-alignement et à son système de posage par aspiration.

Comme les Altisurf 500 et 520, il peut intégrer tous types de capteurs et de systèmes de fixation, permettant la mesure de pièces multiples ou volumineuses, ainsi que le maintien sous vide de substrats fins en silicium.

L’Altisurf 530 intègre les dernières générations de capteurs optiques, offrant des performances élevées pour la caractérisation de grandes surfaces, les mesures multi-échantillons et la mesure de profondeur de gravures sur wafer.

Grâce à ses nombreuses options, il répond à l’ensemble de vos problématiques de mesure, aussi bien en R&D qu’en procédés de fabrication front-end et back-end.SPÉCIFICATIONS

AXES:

  • − Course en X, Y , Z (mm): 300 × 300 × 300− Axes motorisés DC

  • Planéité inférieure à 2µm sur 300mm après correction

  • Vitesse Max. : jusqu’à 40 mm/s

  • Option: encodeur 0,1 µm

  • Option: double axe de rotation

CAPTEURS:

  • Large gamme de capteurs embarquables:

  • Contact: palpeur inductif pointe diamant, µ-force

  • Sans contact: confocal, triangulation laser, interférométrique

  • Caméra haute résolution

IHM:

  • – Mode automatisé pour la production

  • Lien avec des automates

  • Contrôle atelier (feu rouge/feu vert)

  • Définition de protocole par auto-apprentissage

QUALIFICATIONS:

  • Salle blanche

  • CE

  • Respect Directive Machine

Spécifications

Spécifications techniques de AltiSurf© 530

Description technique

Télécharger la brochure

Remplissez le formulaire pour accéder au téléchargement

Merci !

Votre demande a été enregistrée. Vous pouvez maintenant télécharger la brochure.

Télécharger la brochure