AltiSurf© 530
Performance et grand volume
Développé pour les applications dans le domaine des semi-conducteurs, l’Altisurf 530 est spécialement conçu pour le contrôle des wafers de 12 pouces, grâce à sa fonction d’auto-alignement et à son système de posage par aspiration.
Comme les Altisurf 500 et 520, il peut intégrer tous types de capteurs et de systèmes de fixation, permettant la mesure de pièces multiples ou volumineuses, ainsi que le maintien sous vide de substrats fins en silicium.
L’Altisurf 530 intègre les dernières générations de capteurs optiques, offrant des performances élevées pour la caractérisation de grandes surfaces, les mesures multi-échantillons et la mesure de profondeur de gravures sur wafer.
Grâce à ses nombreuses options, il répond à l’ensemble de vos problématiques de mesure, aussi bien en R&D qu’en procédés de fabrication front-end et back-end.SPÉCIFICATIONS
AXES:
− Course en X, Y , Z (mm): 300 × 300 × 300− Axes motorisés DC
Planéité inférieure à 2µm sur 300mm après correction
Vitesse Max. : jusqu’à 40 mm/s
Option: encodeur 0,1 µm
Option: double axe de rotation
CAPTEURS:
Large gamme de capteurs embarquables:
Contact: palpeur inductif pointe diamant, µ-force
Sans contact: confocal, triangulation laser, interférométrique
Caméra haute résolution
IHM:
– Mode automatisé pour la production
Lien avec des automates
Contrôle atelier (feu rouge/feu vert)
Définition de protocole par auto-apprentissage
QUALIFICATIONS:
Salle blanche
CE
Respect Directive Machine